会聚偏光干涉测量晶体双折射率

• 作者: 李卫涛 毛谦敏 沈为民
• 来源期刊: 光电工程
• 学科: 物理学
• 关键词: 晶体光学 折射率测量 会聚偏光干涉 单轴晶体 CCD摄像机
• 年，卷（期）: 2006,（4）
• 所属期刊栏目: 光电测量
• 页码范围: 124-127
• 页数: 4页
• 分类号: O785
• 字数: 2702字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-501X.2006.04.029

摘要

光轴平行表面的晶片的会聚偏光干涉对晶体的双折射率非常敏感.干涉图的对称中心对应于正入射光线,双折射率正比于此点的干涉级md ,md的小数部分主要由中央暗条纹的位置决定,md的整数部分由自洽的办法求出.干涉条纹可以用双曲线很好地拟合,使干涉图特征点的提取更为精确.用不同厚度的铌酸锂晶片作了测量,双折射率不确定度为1(10-4.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈为民	中国计量学院光电工程系	74	383	10.0	14.0
2	李卫涛	中国计量学院光电工程系	4	19	3.0	4.0
3	毛谦敏	中国计量学院光电工程系	32	190	8.0	12.0