自旋阀多层膜巨磁电阻的研制

• 作者: 温殿忠
• 来源期刊: 传感技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: Cu/Co纳米薄膜 扫描电镜 巨磁电阻 金属掩膜技术 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 磁微纳器件与技术
• 页码范围: 2050-2053,2056
• 页数: 5页
• 分类号: TM5
• 字数: 3283字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-1699.2006.05.195

摘要

阐述了多层膜巨磁电阻自旋阀的设计原理和采用金属掩膜版磁控溅射的方法研制多层膜巨磁电阻自旋阀的工艺.制造的多层膜巨磁电阻采用[Co/Cu/Co]三重结构.同时分析了制备的Cu、Co纳米膜的形貌以及利用自旋阀GMR传感器测试得到的实验校准数据并绘制出输出-输入曲线.实验结果表明,制造的巨磁电阻提高了低场下的磁灵敏度,可以用来检测不同方位地磁场的大小,用该方法制造巨磁电阻的迟滞为0.01%F.S.文中介绍的多层膜巨磁电阻制造方法具有工艺简单、可与IC工艺相兼容的优点,有推广应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	温殿忠	黑龙江大学集成电路重点实验室	51	330	10.0	15.0