多孔硅的后处理及其发光特性

• 作者: 元美玲 唐小迅 姜乐 戴丽丽 王水凤
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 多孔硅 酸处理 阴极还原
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 118-122
• 页数: 5页
• 分类号: O482.31
• 字数: 2794字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-7032.2006.01.022

摘要

采用一种新颖而简便的方法,改善多孔硅的发光特性.该方法包括酸处理和阴极还原两步.实验证明通过对多孔硅进行酸处理,能有效提高多孔硅的发光强度;通过对多孔硅进行阴极还原处理,能明显改善多孔硅的发光稳定性,而且发光强度也得到了提高.综合酸处理和阴极还原两技术的特点,对所制备的多孔硅立即先进行酸处理,然后再对其进行阴极还原处理,结果表明该方法能较好地提高多孔硅的发光效率和发光稳定性.而且还对其发光机制进行了探讨.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐小迅	南昌大学物理系	5	32	2.0	5.0
2	姜乐	南昌大学物理系	6	38	3.0	6.0
3	王水凤	南昌大学物理系	15	55	4.0	6.0
4	元美玲	南昌大学物理系	15	103	5.0	10.0
5	戴丽丽	南昌大学物理系	3	29	2.0	3.0