水辅助准分子激光微加工硅的实验研究

• 作者: 史铁林 熊良才 龙芋宏
• 来源期刊: 激光技术
• 学科: 工学
• 关键词: 激光技术 水辅助微加工 准分子激光 刻蚀 硅
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 所属期刊栏目: 应用
• 页码范围: 567-569
• 页数: 3页
• 分类号: TG665
• 字数: 1753字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3806.2006.06.019

摘要

为了研究脉冲激光在不同介质中的刻蚀特性,采用20 ns短脉冲、248 nm准分子激光(能量为150 mJ～250 mJ)分别在水和空气两种介质中对半导体单晶Si片进行微刻蚀实验研究.在实验的基础上,研究了两种介质中准分子激光刻蚀Si的刻蚀孔的基本形貌和刻蚀速率,并对结果进行了对比分析.研究结果表明,水辅助激光微加工时,熔屑易从加工区排出,有助于提高加工的表面质量;同时,水的约束提高了冲击作用,使得刻蚀速率加快.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	史铁林	华中科技大学机械科学与工程学院	192	2245	25.0	38.0
2	龙芋宏	华中科技大学机械科学与工程学院	27	93	4.0	8.0
4	熊良才	华中科技大学机械科学与工程学院	28	380	11.0	18.0