Bi底层对FePt薄膜的影响

• 作者: 于广华 冯春 刘泉林 姜勇 李宝河 滕蛟 韩刚
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: L10-FePt薄膜 有序化温度 底层 扩散
• 年，卷（期）: 2006,（12）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 6656-6660
• 页数: 5页
• 分类号: O4
• 字数: 2996字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2006.12.080

摘要

利用磁控溅射的方法,在玻璃基片上制备了以Bi为底层的FePt薄膜,经不同温度真空热处理得到L10-FePt薄膜.研究了Bi做底层对FePt薄膜的有序化温度及矫顽力Hc的影响.实验结果表明:以Bi做底层的FePt薄膜在350 ℃实现低温有序,同时其Hc也有大幅度提高,并且可以在更大成分范围内获得Hc较高的L10-FePt薄膜.利用X射线光电子能谱研究了薄膜中Bi原子的分布情况,利用X射线衍射研究了薄膜的晶体学结构变化.结果表明,Bi底层在退火过程中的扩散促进了FePt薄膜有序度的升高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李宝河	北京科技大学材料物理与化学系	43	158	6.0	9.0
3	于广华	北京科技大学材料物理与化学系	88	372	9.0	14.0
4	滕蛟	北京科技大学材料物理与化学系	37	132	6.0	9.0
7	姜勇	北京科技大学材料物理与化学系	32	119	7.0	9.0
8	冯春	北京科技大学材料物理与化学系	18	55	5.0	6.0
9	刘泉林	北京科技大学材料物理与化学系	9	12	2.0	3.0
10	韩刚	北京科技大学材料物理与化学系	5	9	2.0	3.0