脉冲激光沉积法制备ZnO薄膜的研究进展

• 作者: 何建廷 刘亦安 吴玉新 庄惠照 田德恒 胡丽君 薛守斌 薛成山 赵婧
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: 半导体技术 脉冲激光沉积 综述 氧化锌薄膜 衬底温度 氧分压
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 9-12
• 页数: 4页
• 分类号: TN3
• 字数: 4187字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2006.05.003

摘要

基于氧化锌薄膜紫外光发光的实现,ZnO薄膜成为新的研究热点.综述了各种沉积条件对脉冲激光沉积(PLD)技术生长的氧化锌薄膜的微结构、光学和电学性质的影响,ZnO薄膜的厚度在超过400 nm时,呈现出了近似块状的性质.采用PLD技术,可以在适当的条件下制备具有特定功能的氧化锌薄膜.