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射频等离子体球化SiO2粉体的研究
射频等离子体球化SiO2粉体的研究
作者:
李晋林
胡鹏
袁方利
闫世凯
原文服务方:
材料工程
射频等离子体
球化
二氧化硅
摘要:
采用射频等离子体球化颗粒形状不规则的二氧化硅粉体,研究了加料速率、颗粒大小等因素对球化率的影响.用光学显微镜观察球化前后颗粒的形貌;用流动仪测定球化后粉体的松装密度.结果显示,球化后的二氧化硅颗粒球形度高,细颗粒长大,并且随着球化率的增大粉体松装密度增加.初步查明加料速率、原料粒度等参数对球化率的影响.在适当的条件下可以得到球化率高、球形度好的粉体.
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文献信息
篇名
射频等离子体球化SiO2粉体的研究
来源期刊
材料工程
学科
关键词
射频等离子体
球化
二氧化硅
年,卷(期)
2006,(2)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
29-33
页数
5页
分类号
TQ127.2
字数
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1001-4381.2006.02.008
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
袁方利
中国科学院过程工程研究所
26
203
8.0
13.0
2
胡鹏
中国科学院过程工程研究所
34
168
8.0
10.0
6
李晋林
中国科学院过程工程研究所
15
223
8.0
14.0
7
闫世凯
中国科学院过程工程研究所
1
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研究主题发展历程
节点文献
射频等离子体
球化
二氧化硅
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
材料工程
主办单位:
中国航发北京航空材料研究院
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-4381
CN:
11-1800/TB
开本:
大16开
出版地:
北京81信箱-44分箱
邮发代号:
创刊时间:
1956-05-01
语种:
中文
出版文献量(篇)
5589
总下载数(次)
0
总被引数(次)
57091
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