低压化学气相淀积计算机模拟

• 作者: 周再发 徐大为 李伟华
• 来源期刊: 电子器件
• 学科: 工学
• 关键词: LPCVD 淀积模拟 计算机模拟 线算法
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 页码范围: 241-243,247
• 页数: 4页
• 分类号: TQ018
• 字数: 2438字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-9490.2006.01.068

摘要

讨论了一个二驱动模型,分析气体在淀积过程中的反应机理,将气体的淀积过程分为各向同性和各向异性的结合.在此基础上提出一个LPCVD二维淀积模型,模型考虑了中间产物的作用,将粘滞系数转换为各向同性和各向异性(Runi/Rd)的比值,这个模型在结构上比较简单,计算方便,因此能得到与实际较为符合的结构.通过C语言编程将模型变为程序,使用线算法使得程序较为简单,计算速度非常快.利用该软件在给定的工艺条件下模拟得到符合实验数据的结果.