一种新颖的MEMS表面工艺牺牲层厚度的电测量方法

• 作者: 李伟华 李晓鹏
• 来源期刊: 电子器件
• 学科: 工学
• 关键词: 牺牲层 厚度 电测量
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 页码范围: 73-75
• 页数: 3页
• 分类号: TN407
• 字数: 1426字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-9490.2006.01.020

摘要

牺牲层厚度是MEMS表面工艺中的一个重要参数,对它的测量和控制有着重要的意义.目前大多采用光机械的方法来测量,但是测试方法复杂、测试时间长.本文介绍了一种新颖的MEMS表面工艺牺牲层厚度测试技术,实现了牺牲层厚度的电测量,测试方法简单快捷,并且很便于测试系统集成.