用灰度曝光技术改善数字光刻图形轮廓

• 作者: 杜惊雷 杜春雷 郭小伟 陈铭勇 马延琴
• 来源期刊: 光电工程
• 学科: 工学
• 关键词: 数字光刻技术 图形发生器 数字微镜 边缘校正
• 年，卷（期）: 2006,（11）
• 所属期刊栏目: 微光学
• 页码范围: 31-35
• 页数: 5页
• 分类号: TN305
• 字数: 2882字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-501X.2006.11.007

摘要

基于空间光调制器(SLM)数字光刻技术可用于IC掩模制作或直接作为微结构的加工工具,但用数字投影光刻系统加工某些结构的二元图形时,往往难以获得预期的图形轮廓,即图形边缘处有一定畸变,特别是较低缩小倍率时.本文提出优化设计图形边缘灰度的方法来校正光刻图形的畸变.文中分析了数字光刻制作这些二元光刻图形时空间像畸变产生的物理机制,详细讨论了设计图形边缘灰度优化的规则,并以加工圆孔滤波器为例,模拟了它的数字光刻成像过程.结果表明,设计图形的边缘采用灰度曝光可使其空间像畸变减小约8个百分点,光场分布更为均匀.数字灰度曝光技术简单易行,可为改善光刻图形质量提供了新途径.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马延琴	四川大学物理学院	6	45	5.0	6.0
2	杜惊雷	四川大学物理学院	77	611	13.0	18.0
3	陈铭勇	四川大学物理学院	8	78	6.0	8.0
4	杜春雷	中国科学院光电技术研究所	72	596	14.0	18.0
5	郭小伟	四川大学物理学院	11	114	6.0	10.0