扩散和清洗的发展方向--国产半导体设备探讨

• 作者: 刘效祯 盛金龙
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 所属期刊栏目: 观察与思考
• 页码范围: 86-87
• 页数: 2页
• 分类号: TN3
• 字数: 2725字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2006.02.002

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	盛金龙		6	18	3.0	4.0
2	刘效祯		1	0	0.0	0.0