电结晶铜/钴纳米多层膜结构与磁性能研究

• 作者: 印仁和 曹为民 曾绍海 石新红 胡滢
• 来源期刊: 化学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 电结晶 Cu/Co纳米多层膜 X射线衍射 巨磁阻效应 磁滞回线
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 32-36
• 页数: 5页
• 分类号: O6
• 字数: 3174字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0567-7351.2006.01.006

摘要

以n型Si(111)为基底,在硼酸镀液体系中采用双槽法电结晶制备Cu/Co纳米多层膜,确定了工艺条件.用扫描电镜(SEM)和X射线衍射(XRD)对纳米多层膜的结构和形貌进行了表征,显示多层膜具有良好周期性和超晶格结构.并用物性测量系统PPMS测试了不同结构Cu/Co纳米多层膜的磁性能.磁滞回线表明:不同周期数的纳米多层膜其矫顽力均较小.巨磁阻(GMR)性能与纳米多层膜结构有关.GMR值随Co磁性层厚度增长先增大后减小,有一极值;随着Cu非磁性层厚度的增加GMR值发生周期性的振荡;随周期数N的增大,GMR值先增大,在N为60时达到了90%,随着N的继续增加而减小,当达到80周期时,GMR值趋于稳定.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曹为民	上海大学理学院化学系	36	349	12.0	17.0
2	印仁和	上海大学理学院化学系	60	427	11.0	16.0
3	石新红	上海大学理学院化学系	8	45	5.0	6.0
4	曾绍海	上海大学理学院化学系	5	69	4.0	5.0
5	胡滢	上海大学理学院化学系	5	36	3.0	5.0