磁控溅射法制备CNx薄膜及其结构表征

• 作者: 张旭海 李凡 李红 王继刚 蒋建清
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 碳化氮 薄膜 磁控溅射 结构表征
• 年，卷（期）: 2006,（7）
• 页码范围: 11-13,18
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2006.07.003

摘要

以Ar/N2混合气体作为溅射气体,利用直流磁控溅射的方法制备子碳氮薄膜.利用X射线衍射和红外光谱对碳氮薄膜进行了结构分析.IR光谱证实了薄膜中碳氮化合物的形成,而XRD的检测结果表明,类石墨相g-C3N4是碳氮薄膜中的主要成分,同时有极少量的β-C3N4晶相生成.同时发现,Ar/N2溅射气体的分压对获取β-CsN4有着明显的影响.本实验中,当N2体积分数为33%,碳氮薄膜中β-C3N4晶相的含量最高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李凡	东南大学材料科学与工程系	38	249	10.0	13.0
2	蒋建清	东南大学材料科学与工程系	147	1301	17.0	25.0
3	王继刚	东南大学材料科学与工程系	26	251	10.0	15.0
4	张旭海	东南大学材料科学与工程系	25	154	8.0	11.0
5	李红	东南大学材料科学与工程系	6	10	2.0	2.0