TiO2纳米线阵列形成机理及其光致发光特性

• 作者: 孙岚 宗晔 左娟 林昌健 聂茶庚 赖跃坤
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 化学
• 关键词: 无机非金属材料 TiO2纳米线阵列 生长机理 光致发光特性
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 12-15
• 页数: 4页
• 分类号: O649.4
• 字数: 3140字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2006.01.005

摘要

采用电化学诱导sol-gel法制备了锐钛矿型TiO2纳米线阵列,初步研究了形成机理和不同沉积时间对其光致发光强度的影响.结果表明:TiO2的生长包括:在含有Ti前驱体的电解质溶液中电沉积钛的羟基氧化物和热处理过程生成TiO2纳米线阵列两个步骤.电化学沉积时间为60 min的TiO2纳米线阵列光致发光强度最大,这可能是TiO2与多孔氧化铝模板之间,以及TiO2纳米线的表面与内部之间的相互作用,使得表面氧空位浓度变化的结果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林昌健	厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室	111	1423	23.0	32.0
2	赖跃坤	厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室	2	10	2.0	2.0
3	孙岚	厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室	12	108	5.0	10.0
4	宗晔	厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室	2	14	2.0	2.0
5	左娟	厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室	2	22	2.0	2.0
6	聂茶庚	厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室	2	4	1.0	2.0