聚合物纳米孔隙增透膜制备工艺的研究

• 作者: 孙涛 朱大庆 杨振宇 赵茗 金曦
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜光学 纳米材料 增透膜 纳米孔隙薄膜 制备工艺
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 152-156
• 页数: 5页
• 分类号: O438
• 字数: 3690字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-2239.2006.01.030

摘要

论述了聚合物纳米孔隙增透膜的制备工艺流程,分析了聚合物材料分子量、实验环境温度和湿度、溶剂挥发性等条件对纳米孔隙增透膜的影响.研究表明,聚合物材料分子量的增大、温度的降低、湿度的升高以及采用挥发性弱的溶剂都将导致增透膜孔隙尺寸的增大,孔隙越大其对光的散射损耗就会增大,所以增透膜的透过率就越低.通过大量的试验分析得出一组较理想的工艺参量:使用低分子量的聚合物材料(小于15kg/mol),环境温度大于25℃、环境相对湿度小于30%,在采用低沸点的溶剂如四氢呋喃等措施下可有效降低增透膜散射损耗.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙涛	华中科技大学激光技术国家重点实验室	26	192	8.0	13.0
2	杨振宇	华中科技大学激光技术国家重点实验室	18	106	6.0	9.0
3	朱大庆	华中科技大学激光技术国家重点实验室	24	243	9.0	15.0
4	赵茗	华中科技大学激光技术国家重点实验室	10	86	6.0	9.0
5	金曦	华中科技大学激光技术国家重点实验室	8	62	4.0	7.0