用于高温压力传感器的AlN绝缘膜的研究

• 作者: 孙以材 李辉 潘国锋 邱美艳
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 氮化铝薄膜 高温压力传感器 直流磁控反应溅射
• 年，卷（期）: 2006,（10）
• 所属期刊栏目: 支撑技术
• 页码范围: 778-781
• 页数: 4页
• 分类号: TN3
• 字数: 2433字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2006.10.016

摘要

采用直流磁控反应溅射法制备了高温压力传感器用的AlN薄膜.用X射线衍射对薄膜的晶向结构进行了分析,研究了薄膜的绝缘特性和化学稳定性,分析了AlN与Si的热膨胀系数、热导系数的关系.选用AlN在力敏电阻条和硅弹性膜之间进行绝缘隔离,由于无p-n结,力敏电阻无反向漏电,得到了极好的压力传感器特性,即零点电漂移及热漂移小及非线性小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙以材	河北工业大学信息工程学院	117	1247	18.0	31.0
2	李辉	河北工业大学信息工程学院	46	263	10.0	14.0
3	潘国锋	河北工业大学信息工程学院	11	64	5.0	7.0
4	邱美艳	河北工业大学信息工程学院	5	43	4.0	5.0