氮掺杂氟化非晶碳薄膜光学性质的研究

• 作者: 刘雄飞 周昕
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 氮掺杂 氟化非晶碳薄膜 光学带隙
• 年，卷（期）: 2006,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 531-534
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4+1
• 字数: 2449字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-2812.2006.04.015

摘要

用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)法制备氮掺杂氟化非晶碳(a-C:F:N)薄膜.用紫外-可见分光光谱仪、椭偏仪、傅立叶变换红外光谱仪对薄膜进行了检测.结果表明:随源气体中氮气含量的增加,光学带隙先减小后升高,折射率变化情况与之相反.在其它条件相同的情况下,升高沉积温度使得薄膜的光学带隙和折射率降低.光学带隙的大小与sp2键含量密切相关,sp2键浓度越大,薄膜的光学带隙越小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘雄飞	中南大学物理科学与技术学院	63	517	13.0	21.0
2	周昕	中南大学物理科学与技术学院	7	12	2.0	3.0