羟基磷灰石义眼台植入后暴露原因分析及处理

• 作者: 朱晶 聂玉红 邢怡桥 郭颖
• 来源期刊: 眼科新进展
• 学科: 医学
• 关键词: 羟基磷灰石义眼台 暴露 原因 处理
• 年，卷（期）: 2006,（9）
• 所属期刊栏目: 应用研究
• 页码范围: 691-693
• 页数: 3页
• 分类号: R779.64
• 字数: 3302字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-5141.2006.09.014

摘要

目的 探讨羟基磷灰石义眼台植入后义眼台暴露的原因及处理方法.方法 对本院2002～2004年收治的32眼羟基磷灰石义眼台暴露患者的治疗方法及效果进行回顾性分析.结果 义眼台暴露的发生时间为术后3 d～6月,暴露范围为3～14 mm,义眼台暴露能自行愈合者5眼;手术修补27眼,其中2眼伴有慢性感染最终手术取出义眼台.术后随访.结论 义眼台暴露的原因与炎症、手术方法、手术时机、术后感染和义眼台的型号等因素有关.其处理可根据暴露范围不同采用不同方法,义眼台暴露范围在5 mm以内的可采用保守治疗,暴露范围超过10 mm的应尽早手术修补,处理过程中应尽量消除可能再次引起义眼台暴露的危险因素.