纳米氧化铈的制备及其抛光性能的研究

• 作者: 张剑平 张鹏珍 施利毅 雷红
• 来源期刊: 光学技术
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米CeO2 化学机械抛光 玻璃基片
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 光学材料
• 页码范围: 682-684,687
• 页数: 4页
• 分类号: TH117
• 字数: 3127字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-1582.2006.05.036

摘要

采用溶胶-凝胶法制备了纳米CeO2粉体,并采用XRD、TOF-SIMS对其进行了表征.结果表明平均晶粒度在13.3nm,粒度分布均匀.进而研究了纳米CeO2在玻璃基片抛光中的抛光性能.ZYGO形貌仪表明,抛光后其表面平均粗糙度值(Ra)可降低到0.6nm左右.原子力显微镜(AFM)在5μm×5μm范围内测得基片表面粗糙度Ra值为0.281nm,表面光滑,划痕等表面微观缺陷明显改善.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张剑平	上海大学理学院	41	737	13.0	26.0
2	施利毅	上海大学纳米中心	226	3075	30.0	40.0
6	雷红	上海大学纳米中心	22	456	10.0	21.0
7	张鹏珍	上海大学纳米中心	3	57	3.0	3.0