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摘要:
研究了化学还原-机械球磨制备电磁屏蔽用低松比片状银粉的生产工艺,确定了各工序主要影响因素的优化条件.用激光粒度分布仪、SEM、比表面测定仪及松装比测定装置对所制产品进行了表征.结果表明:所制超细银粉和片状银粉平均粒径、松装密度、比表面积分别为:1.0 μm和13.5 μm、1.7 g/cm3和0.4 g/cm3、 0.8 m2/g和1.8 m2/g.用所制银粉生产的电磁屏蔽漆具有电阻小,屏蔽效能高等优点.
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文献信息
篇名 电磁屏蔽用低松比片状银粉的制备
来源期刊 电子元件与材料 学科 工学
关键词 电子技术 电磁屏蔽 超细银粉 片状银粉 低松比 制备
年,卷(期) 2006,(10) 所属期刊栏目 研究与试制
研究方向 页码范围 62-64
页数 3页 分类号 TM25
字数 2384字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-2028.2006.10.019
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 郭忠诚 昆明理工大学材料与冶金工程学院 310 3287 29.0 40.0
5 朱晓云 昆明理工大学材料与冶金工程学院 63 794 16.0 25.0
6 金炳界 昆明理工大学材料与冶金工程学院 9 56 5.0 7.0
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制备
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电子元件与材料
月刊
1001-2028
51-1241/TN
大16开
成都市一环路东二段8号宏明商厦702室
62-36
1982
chi
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16
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31758
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