值得重视的田口式参数设计法

• 作者: 魏林
• 来源期刊: 电子质量
• 学科: 工学
• 关键词: 田口式参数 线宽 S/N比 光刻 晶片 晶体管
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 所属期刊栏目: 可靠性分析与研究
• 页码范围: 25-28
• 页数: 4页
• 分类号: TN407
• 字数: 2630字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-0107.2006.02.011

摘要

本文着重论述了田口式参数设计法在半导体制造中对线宽的质量控制.通过田口式参数设计法,可以优化线宽控制对光刻过程步骤中的可控参数的条件,以便将不可控因素的影响降到最低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	魏林		1	1	1.0	1.0