退火对Si(111)衬底上ZnO薄膜的结构和发光特性的影响

• 作者: 刘艳美 周圣明 孙兆奇 宋学平 尹平 李爱侠 汪洪 苏凤莲
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnO薄膜 磁控溅射 X射线衍射 光致发光
• 年，卷（期）: 2006,（3）
• 页码范围: 660-665
• 页数: 6页
• 分类号: O484
• 字数: 3751字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2006.03.050

摘要

采用磁控溅射法在硅(111)衬底上制备了C轴高度取向的ZnO薄膜,并研究了退火温度和氧气气氛对ZnO薄膜晶体质量、晶粒度大小和光致发光谱的影响.X射线衍射表明,所有薄膜均为高度C轴择优取向,当退火温度低于900℃时,随着退火温度的升高,薄膜的取向性和结晶度都明显提高.室温下对ZnO薄膜进行了光谱分析,退火后的样品均可观测到明显的紫光发射.在一定的退火温度范围内,还可以观测到明显的紫外双峰.空气中退火的样品,当退火温度达到或高于600℃还可观测到绿光发射.实验结果表明,发光峰强度随退火温度和氧气气氛不同而不同,通过改变退火时的温度和氧气气氛可以改变ZnO薄膜的微结构和发光性质.