沉积温度对LaNiO3薄膜结构和性能的影响

• 作者: 乔晓东 刘保亭 武德起 王英龙 赵庆勋 闫正
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: LaNiO3 外延薄膜 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 页码范围: 276-279
• 页数: 4页
• 分类号: TN386
• 字数: 2524字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2006.02.016

摘要

采用磁控溅射法在(001)SrTiO3 基片上制备了LaNiO3氧化物薄膜,应用X射线衍射(XRD)、反射式高能电子衍射(RHEED)、原子力显微镜(AFM)、四探针测试仪等技术系统研究了沉积温度对LaNiO3薄膜结构和性能的影响.结果表明在较低的生长温度和较宽的温度范围内(250～400℃)都能得到外延LaNiO3薄膜.输运性质的测量结果表明在其它条件不变的情况下,250℃温度下生长的LaNiO3薄膜具有最高的电导率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘保亭	河北大学物理科学与技术学院	84	302	10.0	13.0
2	赵庆勋	河北大学物理科学与技术学院	54	254	10.0	13.0
3	闫正	河北大学物理科学与技术学院	56	252	9.0	11.0
4	王英龙	河北大学物理科学与技术学院	96	301	9.0	12.0
5	武德起	河北大学物理科学与技术学院	7	42	3.0	6.0
6	乔晓东	河北大学物理科学与技术学院	5	11	2.0	3.0