低温沉积ITO透明导电膜的研究

• 作者: 沈玫 纪建超 贺会权
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 透明导电膜 ITO膜 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2006,（z1）
• 页码范围: 17-19
• 页数: 3页
• 分类号: O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2006.z1.005

摘要

通过探讨半导体氧化物ITO膜的透光和导电机理,用反应性直流磁控溅射的镀膜工艺,在有机玻璃上低温镀制(ITO)膜,研究ITO膜溅射工艺参数与透光和导电性能的关系,实现了在低温下镀制(ITO)膜的技术,其透光率≥80%以上,表面电阻≤30Ω/□.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	纪建超		9	36	4.0	5.0
2	沈玫		6	58	3.0	6.0
3	贺会权		3	53	3.0	3.0