低温沉积ZnO薄膜的压敏特性及其热处理影响

• 作者: 夏姣贞 徐晓峰 杜明贵 王璞 陆慧
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnO薄膜 低温 膜层 热处理 压敏电压 非线性系数
• 年，卷（期）: 2006,（10）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1763-1766
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 字数: 2375字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2006.10.012

摘要

采用GDARE法在较低温度下,通过一次和多次沉积制备单层及多层ZnO薄膜.AFM和XRD分析表明,薄膜具有以ZnO(002)晶面取向为主的多晶结构,多层膜的晶粒尺寸增大.经200～300℃退火热处理,薄膜呈现出良好的低压压敏特性.经200℃退火热处理后,多层ZnO薄膜的非线性系数达到61.54,压敏电压20.10V.在一定范围内升高热处理温度,可明显降低压敏电压.分析了不同膜层及热处理温度对ZnO薄膜压敏特性的影响机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陆慧	华东理工大学物理系	20	99	6.0	9.0
2	杜明贵	华东理工大学物理系	3	26	3.0	3.0
3	夏姣贞	华东理工大学物理系	2	11	2.0	2.0
4	王璞	华东理工大学物理系	1	5	1.0	1.0
5	徐晓峰	华东理工大学物理系	1	5	1.0	1.0