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掺锰硅材料的电流振荡特性
掺锰硅材料的电流振荡特性
作者:
Bakhadyrkhanov M K
Zikrillaev N F
丛秀云
巴维真
张建
陈朝阳
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
硅
掺杂
补偿
电流振荡
摘要:
用高温扩散方法制备出补偿Si∶(B,Mn)材料,并研究了这种材料的电流振荡参数与光照和电场之间的关系.结果表明:在一定光照和电场范围内(276~305V/cm),电阻率为104Ω·cm的材料在液氮温度下显示出电流振荡特性;在一定的电场下,电流振荡波形是固定的,不随时间变化;振荡频率随光照强度的增大而线性增大;调制系数随着光强的增强而减弱;振荡的最大值随着光照强度增大而减小,最小值随着光强增大而缓慢增大.
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篇名
掺锰硅材料的电流振荡特性
来源期刊
半导体学报
学科
工学
关键词
硅
掺杂
补偿
电流振荡
年,卷(期)
2006,(9)
所属期刊栏目
研究论文
研究方向
页码范围
1582-1585
页数
4页
分类号
TN304.1+2
字数
1797字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:0253-4177.2006.09.013
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
张建
中国科学院新疆理化技术研究所
113
802
13.0
25.0
2
陈朝阳
中国科学院新疆理化技术研究所
60
622
12.0
22.0
3
巴维真
中国科学院新疆理化技术研究所
25
201
8.0
13.0
4
丛秀云
中国科学院新疆理化技术研究所
12
74
5.0
7.0
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(11)
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(2)
1996(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
1997(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
2002(5)
参考文献(0)
二级参考文献(5)
2003(3)
参考文献(0)
二级参考文献(3)
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参考文献(3)
二级参考文献(9)
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参考文献(2)
二级参考文献(0)
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二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
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引证文献(1)
二级引证文献(0)
2013(1)
引证文献(1)
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2019(1)
引证文献(0)
二级引证文献(1)
研究主题发展历程
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硅
掺杂
补偿
电流振荡
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体学报(英文版)
主办单位:
中国电子学会和中国科学院半导体研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1674-4926
CN:
11-5781/TN
开本:
大16开
出版地:
北京912信箱
邮发代号:
2-184
创刊时间:
1980
语种:
eng
出版文献量(篇)
6983
总下载数(次)
8
总被引数(次)
35317
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