电子束和X射线光刻制作高分辨率微波带片

• 作者: 叶甜春 曹磊峰 王德强 谢常青
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 电子束 X射线光刻 微波带片 菲涅耳波带片
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1147-1150
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 3108字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2006.06.039

摘要

在硅为衬底材料的自支撑氮化硅薄膜上,采用阴阳图形互换转移技术,先使用电子束直写方法制作成功了最外环为150nm的阳图形微波带片,然后用同步辐射X射线光刻技术复制成功了最外环为150nm的阴图形微波带片,得到可以应用于ICF诊断技术中的微波带片.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	叶甜春	中国科学院微电子研究所微细加工与纳米技术实验室	200	911	14.0	18.0
2	王德强	中国科学院微电子研究所微细加工与纳米技术实验室	28	248	10.0	14.0
3	谢常青	中国科学院微电子研究所微细加工与纳米技术实验室	50	258	9.0	12.0
4	曹磊峰	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	22	85	6.0	8.0