纳米CeO2的醇水法制备及其对GaAs晶片的抛光性能

• 作者: 倪超英 李霞章 陈建清 陈志刚 陈杨
• 来源期刊: 中国有色金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米CeO2 GaAs 醇水法 抛光
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 页码范围: 1064-1069
• 页数: 6页
• 分类号: TG146|TG356.28
• 字数: 2711字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-0609.2006.06.022

摘要

在醇-水体系中以HMT为缓释沉淀剂制备了纳米CeO2粉体,并用TEM、SAD、XRD对其进行了表征,将制备的不同粒径纳米CeO2粉体配制成抛光液,对GaAs晶片进行了化学机械抛光.研究了醇的引入及煅烧温度对粉体性能的影响,并就纳米CeO2磨料尺寸对GaAs晶片抛光后表面粗糙度的影响机理进行了探讨.结果表明:醇水体系中制备的纳米CeO2颗粒较水溶液中制备的颗粒粒径小,且分散性好;随着煅烧温度的升高,颗粒逐渐增大,不同尺寸的纳米颗粒具有不同的抛光效果;随着磨料粒径的增大,表面粗糙度值也随之升高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈志刚	江苏工业学院材料科学与工程系	90	1299	21.0	30.0
2	陈杨	江苏工业学院材料科学与工程系	32	404	13.0	18.0
3	李霞章	江苏大学材料科学与工程学院	21	267	11.0	15.0
4	陈建清	河海大学材料科学与工程系	28	219	8.0	14.0