配合物分子印迹聚合物的识别性能

• 作者: 冯建立 杨座国 王学军 许振良 邴乃慈
• 来源期刊: 华东理工大学学报（自然科学版）
• 学科: 化学
• 关键词: 分子印迹聚合物 金属配合物 分子识别 Scatchard分析
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 页码范围: 690-694
• 页数: 5页
• 分类号: O641.4|TQ028
• 字数: 3477字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-3080.2006.06.013

摘要

以乙酸镍和2,2'-联吡啶配合物为模板、4-乙烯吡啶为功能单体、乙二醇二甲基丙烯酸酯为交联剂,合成了具有类似金属螯合抗体结合位点的金属配合物印迹聚合物,系统研究了金属离子对模板聚合物选择性结合2,2'-联吡啶的调节作用.结果表明:印迹聚合物对Ni(Ⅱ)-2,2'-联吡啶配合物有选择性识别能力.采用Scatchard模型评价分子印迹聚合物的结合特性,得到高亲和力结合位点的平衡离解常数Kd1=0.082 mmol/L,表观最大结合量Qmax1=82.2μmol/g,低亲和力结合位点的Kd2=0.400 mmol/L,Qmax2=91.3μmol/g.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	许振良	华东理工大学化学工程研究所	177	2526	25.0	42.0
2	邴乃慈	华东理工大学化学工程研究所	10	224	7.0	10.0
3	杨座国	华东理工大学化学工程研究所	42	424	11.0	19.0
4	王学军	华东理工大学化学工程研究所	17	400	10.0	17.0
5	冯建立	华东理工大学化学工程研究所	9	71	6.0	8.0