大直径铌酸锂晶片的化学机械抛光研究

• 作者: 孔勇发 王占银 许京军 陈绍林
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 大直径 铌酸锂晶片 化学机械抛光 SiO2溶胶抛光液
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 页码范围: 99-103
• 页数: 5页
• 分类号: O78
• 字数: 2487字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2006.01.022

摘要

本文采用化学机械抛光方法,以SiO2作为抛光液的研磨介质,对76mm Z切向的铌酸锂晶片的抛光进行了深入的研究.分析了影响铌酸锂晶片抛光效果的因素,通过优化工艺参数,使铌酸锂的表面粗糙度Ra达到0.387nm,平面面形误差小于4μm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	许京军	南开大学弱光非线性光子学材料先进技术及制备教育部实验室	80	471	12.0	17.0
2	陈绍林	南开大学弱光非线性光子学材料先进技术及制备教育部实验室	11	112	6.0	10.0
3	孔勇发	南开大学弱光非线性光子学材料先进技术及制备教育部实验室	15	61	5.0	7.0
4	王占银	南开大学弱光非线性光子学材料先进技术及制备教育部实验室	1	20	1.0	1.0