光辐射对水溶性偶氮染料还原脱色反应的影响

• 作者: 葛晓青 董文静 董正洪 董永春 陈勇
• 来源期刊: 印染
• 学科: 工学
• 关键词: 染整 废水处理 偶氮染料 还原 脱色 辐射
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 7-11
• 页数: 5页
• 分类号: TS199
• 字数: 4196字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-4017.2006.02.003

摘要

以硼氢化物和硫酸盐混合物为还原脱色剂,对17个水溶性阴离子偶氮染料进行光还原脱色降解,考察汞灯辐射光对其还原脱色反应的影响,并运用紫外可见光谱法进行分析.结果表明,辐射光对水溶性偶氮染料的还原脱色反应具有明显的促进作用,6种目标染料在光辐射下的脱色率也明显高于室内条件下的脱色率,两者之间的差距随着反应时间的延长而增加,尤其以直接染料的表现更为突出.紫外可见光谱显示,在光还原脱色反应中,染料分子中的共轭体系和芳香环结构均遭到破坏.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	董永春	天津工业大学材料科学与化学工程学院	73	569	13.0	19.0
2	葛晓青	天津工业大学材料科学与化学工程学院	4	32	3.0	4.0
3	陈勇	天津工业大学材料科学与化学工程学院	18	56	5.0	6.0
4	董文静	天津工业大学材料科学与化学工程学院	5	43	3.0	5.0
5	董正洪	天津工业大学材料科学与化学工程学院	2	9	2.0	2.0