C60吡咯烷羧酸衍生物的合成及其清除超氧阴离子自由基(O2-·)的活性

• 作者: 刘绪峰 官文超 程珍贤
• 来源期刊: 应用化学
• 学科: 化学
• 关键词: 光化学反应 富勒烯吡咯烷衍生物 化学荧光 超氧阴离子自由基(O2-·)
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 30-33
• 页数: 4页
• 分类号: O621
• 字数: 2831字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0518.2006.01.007

摘要

亚氨基二乙酸酯(NH(CH2COOR) 2 ,R=Me、Et、t-Bu)与C60的光化学反应制得C60吡咯烷衍生物2,产率为 55%～36% (基于已反应的C60),反应活性与R基的空间效应有关,反应活性的顺序为R=Me＞Et＞t-Bu. C60吡咯烷衍生物2(R=Me)用NaH、CH3OH水解后,经盐酸酸化得相应的羧酸衍生物3,产率为65%(基于C60吡咯烷衍生物2). C60吡咯烷衍生物2和3的结构为1H NMR、13C NMR、IR和元素分析所证实. 用化学发光法检测了C60羧酸衍生物3对邻苯三酚自氧化产生的超氧阴离子(O2-·)的清除效果. 结果表明,C60羧酸衍生物3能有效地清除O2-· ,并且有明显的量效关系. 当C60羧酸衍生物3浓度为0.3 mmol/L时,清除效率可达70%. 讨论了结构因素对C60衍生物清除活性的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘绪峰	华中科技大学化学系	4	32	2.0	4.0
5	官文超	华中科技大学化学系	44	439	14.0	18.0
6	程珍贤	湖北大学化学与材料科学学院	13	59	4.0	7.0