磁头表面超薄DLC保护层厚度测量研究

• 作者: 刘义为 张化宇 施元 李山丹 谢小强
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 超薄类金刚石 厚度 XPS AES TEM
• 年，卷（期）: 2006,（z1）
• 页码范围: 28-30
• 页数: 3页
• 分类号: TB43
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2006.z1.008

摘要

研究了测量磁头表面超薄DLC薄膜和Si中间层厚度的方法,所用的设备有:AES,XPS,TEM.研究结果显示,XPS和AES测量的结果较为吻合,TEM的结果则存在较大差异.在TEM高分辩像下无法分清DLC和Si层,并对AES,XPS和TEM结果产生差异的原因进行了分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张化宇		15	87	5.0	9.0
2	谢小强		1	1	1.0	1.0
3	施元		1	1	1.0	1.0
4	李山丹		1	1	1.0	1.0
5	刘义为		1	1	1.0	1.0