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摘要:
研究了在砷化镓上欧姆接触形成机理,并提出了一种新型的欧姆接触六层金属系统(Ni/Ge/Au/Ge/Ni/Au).在n型GaAs样品上实验了在380~460℃合金温度和50~120 s合金时间下形成欧姆接触,在400℃、60 s下典型的欧姆接触值为2.1x10-7Ω·cm2,同时合金后表面形貌光滑、平整.
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文献信息
篇名 一种在砷化镓上形成欧姆接触的新型六层金属系统
来源期刊 电子器件 学科 工学
关键词 膺配高电子迁移率晶体管 欧姆接触 退火 砷化镓
年,卷(期) 2006,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 9-11,109
页数 4页 分类号 TN305.93
字数 280字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1005-9490.2006.01.003
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张海英 中国科学院微电子研究所 114 574 11.0 17.0
2 尹军舰 中国科学院微电子研究所 31 99 6.0 7.0
3 叶甜春 中国科学院微电子研究所 200 911 14.0 18.0
4 和致经 中国科学院微电子研究所 36 229 9.0 13.0
5 李海鸥 中国科学院微电子研究所 6 22 3.0 4.0
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研究主题发展历程
节点文献
膺配高电子迁移率晶体管
欧姆接触
退火
砷化镓
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子器件
双月刊
1005-9490
32-1416/TN
大16开
南京市四牌楼2号
1978
chi
出版文献量(篇)
5460
总下载数(次)
21
总被引数(次)
27643
论文1v1指导