孪生对靶直流磁控溅射制备ZnO:Al薄膜及其特性研究

• 作者: 何青 刘芳芳 孙云 李凤岩 李微
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 孪生对靶 磁控溅射 ZnO:Al
• 年，卷（期）: 2006,（4）
• 页码范围: 761-764,815
• 页数: 5页
• 分类号: TM615
• 字数: 2117字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2006.04.021

摘要

本文以ZnO:Al(ZAO)陶瓷为靶材,采用孪生对靶直流磁控溅射工艺在玻璃衬底上制备出高质量的铝掺杂氧化锌透明导电膜,研究了该薄膜的结构、光电及力学特性.采用孪生对靶制备ZAO薄膜可使样品避开等离子体直接轰击,减少基底薄膜的损伤.制备的薄膜具有结晶程度高、电阻率低、迁移率高等优点.ZAO薄膜的最低电阻率达到了4.47×10-4Ω·cm,在可见光区的平均透过率达到85%以上,非常适合做为铜铟硒(CIS)薄膜太阳电池窗口层.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何青	南开大学光电子薄膜器件与技术研究所	40	365	11.0	18.0
2	李凤岩	南开大学光电子薄膜器件与技术研究所	16	135	6.0	11.0
3	孙云		3	20	2.0	3.0
4	刘芳芳		2	18	2.0	2.0
5	李微	南开大学光电子薄膜器件与技术研究所	1	16	1.0	1.0