二氧化硅纳米粒子表面修饰及其表征

• 作者: 刘晓云 李兰 查刘生 赵辉鹏 阎捷
• 来源期刊: 分析测试学报
• 学科: 化学
• 关键词: SiO2纳米粒子 表面修饰 甲基丙烯酸-3-(三甲氧基硅基)丙酯 表征
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 5-9
• 页数: 5页
• 分类号: O613.32|O653
• 字数: 2999字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4957.2006.06.002

摘要

采用溶胶-凝胶法合成粒径在50～150 nm范围内的二氧化硅(SiO2)纳米粒子.用甲基丙烯酸-3-(三甲氧基硅基)丙酯(MPS)对SiO2纳米粒子表面进行修饰,使其表面接枝能参与自由基聚合反应的碳碳双键基团.用元素分析、FTIR、13C CP/MAS NMR和29Si CP/MAS NMR等手段对修饰过的SiO2纳米粒子进行表征,以确证MPS接枝在SiO2纳米粒子上.分析修饰过的SiO2纳米粒子的29Si CP/MAS NMR和FTIR谱图,还可初步推断MPS接枝在SiO2纳米粒子表面的机理:MPS首先发生水解缩合反应形成低聚物,然后通过氢键作用吸附到SiO2纳米粒子表面,最后MPS低聚物中未缩合的硅羟基与SiO2纳米粒子表面的硅羟基发生缩合反应.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李兰	东华大学分析测试中心	27	183	9.0	12.0
2	查刘生	东华大学纤维材料改性国家重点实验室	61	518	14.0	20.0
6	赵辉鹏	东华大学分析测试中心	17	92	6.0	9.0
7	刘晓云	东华大学纤维材料改性国家重点实验室	16	87	6.0	9.0
8	阎捷	东华大学分析测试中心	9	79	5.0	8.0