硅烷化和多聚赖氨酸化衬底结合容量的比较

• 作者: 张峰 张志祥 李宾 李民乾 胡钧 赵辉
• 来源期刊: 分析测试学报
• 学科: 化学
• 关键词: 原子力显微镜 修饰 多聚赖氨酸 微通道
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 80-82,86
• 页数: 4页
• 分类号: O656.9|Q61
• 字数: 2333字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4957.2006.01.021

摘要

应用了多聚赖氨酸以及硅烷化试剂--3-氨丙基三乙氧基硅烷和3-(2,3环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷修饰硼玻璃衬底,并用微点阵点样仪和微通道在其上印刷微点阵.应用原子力显微镜观测以上所制备衬底的粗糙度以及荧光显微镜检测不同衬底的分子结合容量.结果显示:(1)多聚赖氨酸修饰衬底的粗糙度大于两种硅烷化试剂修饰衬底的粗糙度;(2)前者的结合容量高于硅烷化试剂修饰衬底的结合容量,多聚赖氨酸修饰衬底的探针结合容量是3-(2,3环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷修饰衬底的6倍,说明衬底的粗糙度和分子结合容量之间的正相关关系.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵辉	中国科学院上海微系统与信息技术研究所	110	645	14.0	19.0
2	张峰	中国科学院上海应用物理研究所	149	3496	30.0	56.0
3	张志祥	中国科学院上海应用物理研究所	12	88	5.0	9.0
4	李宾	中国科学院上海应用物理研究所	18	43	4.0	6.0
5	李民乾	中国科学院上海应用物理研究所	20	212	7.0	14.0