磁流变抛光光学曲面的两级插补算法

• 作者: 孙希威 张飞虎 栾殿荣 董申
• 来源期刊: 光电工程
• 学科: 工学
• 关键词: 磁流变抛光 光学曲面 插补算法
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 所属期刊栏目: 先进光学制造技术
• 页码范围: 61-64
• 页数: 4页
• 分类号: TQ171.6
• 字数: 2099字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-501X.2006.02.016

摘要

根据磁流变抛光的加工特点,本文提出一种加工光学曲面的粗、精两级插补算法.粗插补算法控制工件的面形,精插补算法采用PVT模式,可实现对磁流变抛光光学曲面复杂过程的控制.仿真结果表明,采用该插补算法加工R41.3mm、口径20mm的球面工件,插补误差小于0.45nm,磁流变抛光该尺寸的K9光学玻璃,获得PV57.911nm的面形精度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张飞虎	哈尔滨工业大学机电工程学院	132	2251	25.0	41.0
2	栾殿荣	哈尔滨工业大学机电工程学院	16	274	10.0	16.0
3	董申	哈尔滨工业大学机电工程学院	232	4378	35.0	50.0
4	孙希威	哈尔滨工业大学机电工程学院	8	106	5.0	8.0