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磁流变抛光光学曲面的两级插补算法
磁流变抛光光学曲面的两级插补算法
作者:
孙希威
张飞虎
栾殿荣
董申
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
磁流变抛光
光学曲面
插补算法
摘要:
根据磁流变抛光的加工特点,本文提出一种加工光学曲面的粗、精两级插补算法.粗插补算法控制工件的面形,精插补算法采用PVT模式,可实现对磁流变抛光光学曲面复杂过程的控制.仿真结果表明,采用该插补算法加工R41.3mm、口径20mm的球面工件,插补误差小于0.45nm,磁流变抛光该尺寸的K9光学玻璃,获得PV57.911nm的面形精度.
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文献信息
篇名
磁流变抛光光学曲面的两级插补算法
来源期刊
光电工程
学科
工学
关键词
磁流变抛光
光学曲面
插补算法
年,卷(期)
2006,(2)
所属期刊栏目
先进光学制造技术
研究方向
页码范围
61-64
页数
4页
分类号
TQ171.6
字数
2099字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1003-501X.2006.02.016
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
张飞虎
哈尔滨工业大学机电工程学院
132
2251
25.0
41.0
2
栾殿荣
哈尔滨工业大学机电工程学院
16
274
10.0
16.0
3
董申
哈尔滨工业大学机电工程学院
232
4378
35.0
50.0
4
孙希威
哈尔滨工业大学机电工程学院
8
106
5.0
8.0
传播情况
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引文网络
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(229)
2006(1)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2006(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2007(2)
引证文献(2)
二级引证文献(0)
2008(2)
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二级引证文献(1)
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引证文献(0)
二级引证文献(38)
2018(32)
引证文献(0)
二级引证文献(32)
2019(21)
引证文献(0)
二级引证文献(21)
2020(2)
引证文献(0)
二级引证文献(2)
研究主题发展历程
节点文献
磁流变抛光
光学曲面
插补算法
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光电工程
主办单位:
中国科学院光电技术研究所
中国光学学会
出版周期:
月刊
ISSN:
1003-501X
CN:
51-1346/O4
开本:
大16开
出版地:
四川省成都市双流350信箱
邮发代号:
创刊时间:
1974
语种:
chi
出版文献量(篇)
4776
总下载数(次)
5
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