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摘要:
根据磁流变抛光的加工特点,本文提出一种加工光学曲面的粗、精两级插补算法.粗插补算法控制工件的面形,精插补算法采用PVT模式,可实现对磁流变抛光光学曲面复杂过程的控制.仿真结果表明,采用该插补算法加工R41.3mm、口径20mm的球面工件,插补误差小于0.45nm,磁流变抛光该尺寸的K9光学玻璃,获得PV57.911nm的面形精度.
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文献信息
篇名 磁流变抛光光学曲面的两级插补算法
来源期刊 光电工程 学科 工学
关键词 磁流变抛光 光学曲面 插补算法
年,卷(期) 2006,(2) 所属期刊栏目 先进光学制造技术
研究方向 页码范围 61-64
页数 4页 分类号 TQ171.6
字数 2099字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1003-501X.2006.02.016
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张飞虎 哈尔滨工业大学机电工程学院 132 2251 25.0 41.0
2 栾殿荣 哈尔滨工业大学机电工程学院 16 274 10.0 16.0
3 董申 哈尔滨工业大学机电工程学院 232 4378 35.0 50.0
4 孙希威 哈尔滨工业大学机电工程学院 8 106 5.0 8.0
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研究主题发展历程
节点文献
磁流变抛光
光学曲面
插补算法
研究起点
研究来源
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研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
光电工程
月刊
1003-501X
51-1346/O4
大16开
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1974
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