双源电子束蒸发制备Si/SiO2光学薄膜的工艺

• 作者: 吴旭明 周代兵 王晓东 谭满清 赵妙
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 介质光学膜 双源电子束蒸发 折射率 蒸发速率
• 年，卷（期）: 2006,（9）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1586-1589
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 2217字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2006.09.014

摘要

用双源电子束蒸发的方法,在K9玻璃基片上蒸镀Si和SiO2的混合膜.通过改变两种膜料蒸发速率的比例,得到的各个膜层,其折射率大小在两种膜料折射率之间的范围内变化.从实验上得出了混合膜层的折射率随Si和SiO2蒸发速率比变化的规律,并讨论了这种淀积方法的优越性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王晓东	中国科学院半导体研究所光电子研究发展中心	198	1467	19.0	28.0
2	谭满清	中国科学院半导体研究所光电子研究发展中心	24	136	8.0	10.0
3	吴旭明	中国科学院半导体研究所光电子研究发展中心	9	50	3.0	6.0
4	赵妙	中国科学院半导体研究所光电子研究发展中心	5	20	3.0	4.0
5	周代兵	中国科学院半导体研究所光电子研究发展中心	4	18	2.0	4.0