环氧基负性光刻胶加工微结构的试验研究

• 作者: 郑晓虎
• 来源期刊: 光电工程
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻工艺 UV LIGA 预测模型 优化
• 年，卷（期）: 2006,（11）
• 所属期刊栏目: 先进光学制造技术
• 页码范围: 36-39
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2395字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-501X.2006.11.008

摘要

在正交试验的基础上,将BP神经网应用于负性光刻胶(SU-8)加工高分辨率和高深宽比微结构的工艺研究,建立了光刻图形质量与前烘时间、前烘温度、曝光量、后烘时间之间的预测模型,该模型采用三层前向网络,学习算法为梯度下降法.通过实验,得出:前烘温度与前烘时间对光刻质量影响最大,对120～340μm厚的光刻胶,前烘温度取90℃,前烘时间50～100min时,图形的相对线宽差最小;最佳后烘时间(85～95℃)为30min;超声搅拌能缩短显影时间,改善图形质量.试验结果与网络预测结果吻合.结果表明,将BP神经网络应用于UV-LIGA技术中,可以优化光刻工艺.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑晓虎	淮阴工学院机械系	11	102	6.0	10.0