高质量二维光子晶体结构刻蚀掩膜版的制作方法

• 作者: 张杨 杜伟 杨富华 王春霞 许兴胜 陈弘达 韩伟华
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 光子晶体 电子束曝光 PMMA掩膜
• 年，卷（期）: 2006,（9）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1640-1644
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 3057字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2006.09.026

摘要

结合制作光子晶体结构的具体要求,研究了电子束曝光得到的电子束胶上(GaAs衬底)随实验条件变化的图形.结果表明,胶的厚度、曝光剂量、显影/定影时间等参数对图形的质量有重要影响.通过合理优化这些参数,我们得到了高质量的掩膜图形.