地表覆盖对温室黄瓜生长及生理特性的影响

• 作者: 戴全厚 杜社妮 梁银丽 王巨媛 由海霞 翟胜 陈甲瑞
• 来源期刊: 应用生态学报
• 学科: 生物学
• 关键词: 嫁接黄瓜 日光温室 地表覆盖 生长 生理特性
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 页码范围: 1039-1044
• 页数: 6页
• 分类号: Q948.3
• 字数: 5011字
• 语种: 中文

摘要

研究了地表覆盖秸秆、地膜和秸秆加膜对日光温室嫁接和非嫁接黄瓜生长与生理特性的影响.结果表明,地表覆盖可有效促进植株生长,嫁接黄瓜覆盖秸秆加膜、地膜与秸秆的株高和茎粗依次比对照增加91、71、57 cm和0.127、0.086、0.111 cm,非嫁接黄瓜增幅较小;地表覆盖可增强光合作用,嫁接黄瓜覆盖秸秆加膜、地膜、秸秆的净光合速率分别比对照增加2.63、2.08与1.36 μmol·m-2·s-1,非嫁接黄瓜增幅较小;嫁接黄瓜覆盖秸秆加膜和秸秆的叶绿素含量比对照增加1.8%和3.15%,而覆盖地膜的叶绿素含量降低了3.8%,非嫁接黄瓜的叶绿素含量变幅较小;嫁接黄瓜覆盖秸秆加膜、地膜、秸秆的根系活力比对照提高0.98、0.48和0.8 mg TTC·g-1 FW,同一处理的非嫁接黄瓜根系活力增幅较小;地表覆盖可增加单株干物重,提高早期产量和总产量,嫁接黄瓜覆盖秸秆加膜、地膜与秸秆的单株产量比非嫁接黄瓜分别增加16%、5.3%和3.4%.