原型装置真空系统光学元件的污染过程及控制

• 作者: 吕海兵 熊迁 王成程 蒋晓东 袁晓东 赵松楠 黄进
• 来源期刊: 中国工程物理研究院科技年报
• 学科: 工学
• 关键词: 神光Ⅲ原型装置 污染过程 光学元件 真空系统 控制 空间滤波器 饱和蒸气压 运行稳定性
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 页码范围: 297-298
• 页数: 2页
• 分类号: TQ028.8

摘要

神光Ⅲ原型装置运行过程中空间滤波器和终端光学组件保持在10^-3Pa的真空条件下，其中使用的各种润滑脂和密封圈中的有机物饱和蒸气压浓度和自由程增大，造成膜层污染。光学元件表面膜层在污染后性能退化，对装置激光通量、能量效率、运行稳定性和可靠性均会产生严重影响。