高纯二氧化锗中痕量杂质的ICP-MS法测定

• 作者: 刘红 刘英 赵春华
• 来源期刊: 分析试验室
• 学科: 化学
• 关键词: 高纯二氧化锗 ICP-MS 痕量杂质
• 年，卷（期）: 2006,（7）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 64-66
• 页数: 3页
• 分类号: O657.63
• 字数: 1033字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0720.2006.07.017

摘要

建立了高纯二氧化锗中痕量杂质Mg、Al、Ni、Cu、Zn、In、Pb的ICP-MS测定方法.选择了仪器最佳工作条件,研究了锗基体对被测元素的干扰,方法回收率为94%～114%,RSD为11.1%～57%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘英		48	250	9.0	12.0
2	刘红		5	13	2.0	3.0
3	赵春华		1	4	1.0	1.0