投影电子束光刻中电子穿透掩膜的Monte Carlo模拟

• 作者: 丁泽军 孙霞 张增明 肖沛
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Monte Carlo模拟 电子束光刻 掩膜
• 年，卷（期）: 2006,（11）
• 所属期刊栏目: 原子和分子物理学
• 页码范围: 5803-5809
• 页数: 7页
• 分类号: O57
• 字数: 5266字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2006.11.038

摘要

利用基于Mott散射截面和介电函数模型的Monte Carlo方法模拟了电子穿透掩膜的能量损失分布,其计算结果与实验结果符合很好.由此进一步计算了角度限制投影电子束光刻(SCALPEL)掩膜的穿透率和衬度,结果表明:散射体的厚度对衬度的影响较大,衬度随散射体厚度的增加而增强,而支撑体对衬度的影响较小;增大限制孔的孔径角时,透射率相应增大,但衬度会降低;衬度随入射电子的能量增加而减小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	丁泽军	合肥微尺度物质科学国家实验室中国科学技术大学物理系	4	18	3.0	4.0
2	张增明	合肥微尺度物质科学国家实验室中国科学技术大学天文与应用物理系	3	16	3.0	3.0
3	肖沛	合肥微尺度物质科学国家实验室中国科学技术大学物理系	1	5	1.0	1.0
4	孙霞	合肥微尺度物质科学国家实验室中国科学技术大学物理系	1	5	1.0	1.0