高光洁度玻璃基片的表面散射和体散射测量

• 作者: 侯海虹 易葵 洪瑞金 范正修 邵建达
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 表面散射 体散射 总积分散射 玻璃基片 表面粗糙度
• 年，卷（期）: 2006,（4）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 609-611
• 页数: 3页
• 分类号: TH742
• 字数: 2024字
• 语种: 中文

摘要

提出了一种利用总积分散射(TIS)测量K9玻璃基片表面散射和体散射的实验方法.首先采用磁控溅射技术在基片表面沉积厚度为几十nm的金属Ag薄膜,然后将基片的表面和体区分开考虑,通过TIS测得了基片上下表面的均方根粗糙度, 进而求得基片的总散射和表面散射,最后计算得到了体散射.分别利用TIS和原子力显微镜(AFM)测量了3个样品上表面所镀Ag膜的均方根粗糙度,两种方法所得的均方根粗糙度的数值相差不明显,差值分别为0.08,0.11和0.09 nm, 表明TIS和AFM的测量结果相一致.利用该方法测得3块K9玻璃基片的总散射分别为6.06×10-4,5.84×10-4和6.48×10-4,表面散射介于1.25×10-4～1.56×10-4之间,由此计算得到的体散射分别为3.10×10-4,3.30×10-4和3.61×10-4.