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摘要:
针对气囊式小磨头抛光方法的缺陷,提出了一种新的气囊式抛光方法.本文对该气囊式抛光法的原理和抛光气囊的结构、运动方式等进行了阐述.在此基础上,结合装置开展了实验,给出了去除量、压力、粗糙度与时间的关系.研究结果表明,利用该气囊式抛光方法对非球面光学零件进行抛光,效果良好,表面粗糙度可达2nm,该方法能满足中高等精度的加工要求;该方法适合平面、球面、非球面、甚至任意曲面的抛光.
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文献信息
篇名 一种新的气囊式抛光方法的研究
来源期刊 光电工程 学科 工学
关键词 气囊式抛光法 非球面加工 表面粗糙度
年,卷(期) 2006,(10) 所属期刊栏目 先进光学制造技术
研究方向 页码范围 121-124,131
页数 5页 分类号 TQ171.6
字数 3065字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1003-501X.2006.10.023
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 杭凌侠 西安工业大学光电学院 93 777 15.0 22.0
2 张峰 西安工业大学光电学院 56 361 9.0 16.0
3 陈智利 西安工业大学光电学院 46 203 8.0 11.0
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研究主题发展历程
节点文献
气囊式抛光法
非球面加工
表面粗糙度
研究起点
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光电工程
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