磁流变抛光工艺参数优化研究

• 作者: 唐宇 彭小强 戴一帆
• 来源期刊: 中国机械工程
• 学科: 工学
• 关键词: 磁流变抛光 正交试验 灰色关联分析 多工艺指标优化
• 年，卷（期）: 2006,（z1）
• 所属期刊栏目: 科学基金
• 页码范围: 324-327
• 页数: 4页
• 分类号: TH164
• 字数: 3598字
• 语种: 中文

摘要

利用正交试验法均衡搭配各个工艺参数,减少试验次数,分析了各个工艺参数对单项工艺指标的影响规律.采用灰色相关理论,重点解决了磁流变抛光多工艺指标的工艺参数优化这一难点问题,简化了优化过程,得到了工艺参数优化组合方案,并进行了试验验证.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	戴一帆		64	1121	16.0	32.0
2	彭小强		26	313	10.0	17.0
3	唐宇		17	143	7.0	11.0