等离子喷涂羟基磷灰石涂层的化学不均匀性和浸泡行为

• 作者: 吕宇鹏 李士同 王建华 肖桂勇
• 来源期刊: 金属热处理
• 学科: 工学
• 关键词: 羟基磷灰石 涂层 化学不均匀性 热处理
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 表面改性技术
• 页码范围: 21-24
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.442
• 字数: 1784字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0254-6051.2006.05.007

摘要

利用X射线衍射仪(XRD)、电子探针(EPMA)等检测手段,对纯钛表面等离子喷涂羟基磷灰石(HA)涂层的化学不均匀性和浸泡行为以及热处理对涂层化学不均匀性的影响进行了研究.结果表明,喷涂后的涂层中存在化学不均匀性,原始颗粒越小不均匀性越严重;去离子水浸泡后,涂层表面析出Ca2P2O7等化合物,浸泡时间越长、原始颗粒越小的涂层析出物越多;热处理能使非晶相和分解相重新生成HA,提高涂层结晶度而消除非均匀现象.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王建华	山东大学口腔医学院	44	207	8.0	12.0
2	肖桂勇	山东大学材料科学与工程学院	24	174	8.0	12.0
3	吕宇鹏	山东大学材料科学与工程学院	61	536	13.0	19.0
4	李士同	山东大学材料科学与工程学院	26	396	11.0	19.0