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β-Ga2O3单晶浮区法生长及其光学性质
β-Ga2O3单晶浮区法生长及其光学性质
作者:
史宏生
吴锋
夏长泰
张俊刚
徐军
徐悟生
裴广庆
邓群
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
浮区法
宽禁带半导体
β-Ga2O3单晶
摘要:
用浮区法生长得到了宽禁带半导体材料β-Ga2O3单晶,对其吸收光谱、荧光光谱进行了分析.解释了禁带部分展宽的原因.并研究了Sn4+和Ti4+的掺杂对其紫外吸收边影响.β-Ga2O3单晶的荧光谱不仅观察到了3个特征峰:紫外光(395nm)、蓝光(471nm)、绿光(559nm),还观察到了在277和297nm的紫外光和692nm的红光荧光发射.
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文献信息
篇名
β-Ga2O3单晶浮区法生长及其光学性质
来源期刊
功能材料
学科
物理学
关键词
浮区法
宽禁带半导体
β-Ga2O3单晶
年,卷(期)
2006,(3)
所属期刊栏目
研究与开发
研究方向
页码范围
358-360,363
页数
4页
分类号
O782
字数
3460字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:1001-9731.2006.03.005
五维指标
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宽禁带半导体
β-Ga2O3单晶
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
功能材料
主办单位:
重庆材料研究院
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-9731
CN:
50-1099/TH
开本:
16开
出版地:
重庆北碚区蔡家工业园嘉德大道8号
邮发代号:
78-6
创刊时间:
1970
语种:
chi
出版文献量(篇)
12427
总下载数(次)
30
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